Russia, roadmap fino al 2037 per sistemi di litografia EUV alternativi a quelli di ASML
L'Istituto di Fisica delle Microstrutture dell'Accademia delle Scienze russa ha pubblicato una roadmap fino al 2037 per sistemi di litografia EUV a lunghezza d'onda a 11,2 nm. Il progetto, alternativo ai macchinari ASML, mira a supportare processi fino a 9 nm con costi ridotti, ma restano dubbi sulla fattibilità.
L'Istituto di Fisica delle Microstrutture dell'Accademia delle Scienze russa ha pubblicato una roadmap fino al 2037 per sistemi di litografia EUV a lunghezza d'onda a 11,2 nm. Il progetto, alternativo ai macchinari ASML, mira a supportare processi fino a 9 nm con costi ridotti, ma restano dubbi sulla fattibilità.
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