La Cina rincorre ASML: secondo Jensen Huang mancano solo pochi anni
Jensen Huang ritiene che la Cina possa sviluppare sistemi di litografia avanzati entro il 2030, riducendo il divario con ASML. Oggi l'industria cinese dispone di scanner DUV molto meno avanzati e sta ancora qualificando soluzioni per i 28 nm.
Jensen Huang ritiene che la Cina possa sviluppare sistemi di litografia avanzati entro il 2030, riducendo il divario con ASML. Oggi l'industria cinese dispone di scanner DUV molto meno avanzati e sta ancora qualificando soluzioni per i 28 nm.
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