Intel supera il milione di wafer prodotti con litografia High-NA EUV
Intel ha superato il milione di wafer da 300 mm processati con scanner High-NA EUV, impiegati anche per alcune sezioni dei processori Panther Lake prodotti con tecnologia Intel 18A. L'azienda continua a utilizzare maschere da 6x6 pollici, mentre lavora con ASML alla transizione verso formati da 6x12 pollici.
Intel ha superato il milione di wafer da 300 mm processati con scanner High-NA EUV, impiegati anche per alcune sezioni dei processori Panther Lake prodotti con tecnologia Intel 18A. L'azienda continua a utilizzare maschere da 6x6 pollici, mentre lavora con ASML alla transizione verso formati da 6x12 pollici.
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