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Intel investirà 3,3 miliardi di dollari in India per un impianto dedicato ai substrati per semiconduttori
Intel e 3DGS investiranno circa 3,3 miliardi di dollari per realizzare nello stato indiano dell'Odisha un impianto dedicato alla produzione di substrati avanzati per semiconduttori. Il progetto, previsto nell'arco di cinque-sei anni, sosterrà la strategia industriale dell'India e creerà oltre 1.800 posti di lavoro qualificati.
Intel e 3DGS investiranno circa 3,3 miliardi di dollari per realizzare nello stato indiano dell'Odisha un impianto dedicato alla produzione di substrati avanzati per semiconduttori. Il progetto, previsto nell'arco di cinque-sei anni, sosterrà la strategia industriale dell'India e creerà oltre 1.800 posti di lavoro qualificati.
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