Cina ancora lontana dalla litografia EUV: UBS e Zeiss stimano un ritardo di 10-15 anni
UBS e Zeiss concordano sul forte divario tra Cina e ASML nella litografia EUV, stimando un ritardo compreso tra 10 e 15 anni. Pechino potrebbe invece avvicinarsi rapidamente alla tecnologia DUV a immersione. Le restrizioni statunitensi spingono lo sviluppo nazionale, ma resa produttiva e throughput restano ostacoli da superare.
UBS e Zeiss concordano sul forte divario tra Cina e ASML nella litografia EUV, stimando un ritardo compreso tra 10 e 15 anni. Pechino potrebbe invece avvicinarsi rapidamente alla tecnologia DUV a immersione. Le restrizioni statunitensi spingono lo sviluppo nazionale, ma resa produttiva e throughput restano ostacoli da superare.
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