ASML porta la sorgente EUV a 1.000W: fino al 50% di chip in più entro il 2030
ASML ha annunciato un incremento della potenza della sorgente EUV a 1.000 watt, rispetto ai circa 600 attuali. Il risultato atteso è una produttività fino al 50% superiore entro il 2030, con 330 wafer/ora per macchina e costi per chip in riduzione, senza necessità di espandere le camere bianche.
ASML ha annunciato un incremento della potenza della sorgente EUV a 1.000 watt, rispetto ai circa 600 attuali. Il risultato atteso è una produttività fino al 50% superiore entro il 2030, con 330 wafer/ora per macchina e costi per chip in riduzione, senza necessità di espandere le camere bianche.
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